Intel 向 ASML 落訂首部 TWINSCAN EXE:5200 系統訂單

 

Intel 已向 ASML 落訂業界首部 TWINSCAN EXE:5200 系統的訂單，這款具備 High-NA 的極紫外光 （EUV） 大量生產系統，每小時具備 200 片以上晶圓產能。ASML 最新的 EXE 平台為 EUV 技術的演化步驟，包括新穎的光學設計與大幅提升速度的光罩與晶圓階段。TWINSCAN EXE:5000 和 EXE:5200 系統與之前 EUV 機械所具備的 0.33 數值孔徑鏡片相比，提供精確度提升的 0.55 數值孔徑，為更小的電晶體特徵提供更高解像度圖案化。系統所具備的數值孔徑結合其使用波長，決定最小能夠印製的特徵尺寸。

EUV 0.55 NA 為 2025 年開始的多個未來節點所設計，同時也是業界首次部署該技術，隨之而來是具備相近密度的記憶體技術。