國產 EDA 取得突破 東方晶源計算光刻雲方案

東方晶源微電子科技（北京）有限公司（東方晶源）發佈首款基於雲端的 EDA 計算光刻平台｢ AeroHPO 全流程協同優化系統｣，成為國產 EDA 和一體化良率解決方案“雲”部署商。

該系統沿用東方晶源自主研發、全球率先工程應用的全晶片反向光刻掩模優化（ILT）技術，同時依託於公有雲平台，可為客戶提供 28nm 及以下技術節點的制程建模、基於 ILT 掩模優化、設計規則與掩模規則檢查（DRC / MRC）、光源掩模聯合優化（IRO）、嚴格物理光刻模擬、DPT 版圖拆分及光刻性能檢查（LRC）等全產品線功能與服務。

AeroHPO 是東方晶源現有基於私有計算集群的計算光刻解決方案的補充，該系統在易獲得性和靈活收費方式等方面具有顯著優勢，可為高校和科研院所等提供便利`的 EDA 和計算光刻教學與科研平台，同時為中小型晶片設計與製造企業提供更為經濟和靈活的解決方案。

東方晶源的 AeroHPO 全流程協同優化系統，不但解決掩模優化設計問題，而且具有上游 EDA 工具以及下游缺陷分析和良率控制系統的可擴展性和相容性，提供了從晶片設計到製造一體化的 DTCO 綜合平台。

截至目前，該系統已經在合作夥伴北京超級雲、華為雲和騰訊雲等公有雲上完成測試。